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| 磁流體密封裝置 |
| 關(guān)鍵詞：真空爐 離子刻蝕、鍍膜濺射、 |
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公司名稱：株洲偉大科技發(fā)展有限責(zé)任公司 |
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詳細(xì)說(shuō)明 |
| 磁流體密封裝置廣泛應(yīng)用于單晶硅爐、鍍膜機(jī)、真空熱處理爐、燒結(jié)爐、釬焊爐、刻蝕機(jī)、羅茨泵、化學(xué)氣相沉積設(shè)備、電器開(kāi)關(guān)等真空動(dòng)密封部位。磁流體密封技術(shù)可應(yīng)用于航空航天、工業(yè)機(jī)械、軍事科技、光纖光電、電子電器、醫(yī)藥機(jī)械、冶金機(jī)械、石油化工等領(lǐng)域。 |
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